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一、 特点
快速光亮填平，在宽广的电流密度范围内,，可获得填平度均匀的镍镀层；镀层柔软洁白，低电位覆盖力强而平均，光亮度及填平度极佳；镀液使用寿命长；镀层上铬容易，适用于单层光亮镍或防腐蚀性能要求高的多层镍工艺。
二、 工艺规范
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原料组成及操作条件 |
范 围 |
标准（一般开缸份量） |
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硫酸镍（NiSO4﹒6H2O） |
220-280克/升 |
250克/升 |
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氯化镍（Nicl2﹒6H2O） |
40-60克/升 |
50克/升 |
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硼 酸（H3BO3） |
30-50克/升 |
40克/升 |
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PSN—66主光剂 |
0.3-0.4毫升/升 |
0.35毫升/升 |
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PSN—66开缸剂 |
6-10毫升/升 |
8毫升/升 |
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PSN—65湿润剂 |
1.0毫升/升 |
1.0毫升/升 |
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温 度 |
50-60℃ |
55℃ |
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PH 值 |
4-4.8 |
4.6 |
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电流密度 |
2-6 A/dm2 |
4 A/dm2 |
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搅拌方法 |
空气或机械搅拌 |
空气搅拌 |
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过 滤 |
连续过滤 |
连续过滤 |
三、 镀液维护
PSN—66主光剂：每千安培小时消耗100—200ml.
PSN－66开缸剂：每千安培小时消耗40-80ml.
PSN—65湿润剂：每千安培小时消耗10—30ml. |
